【成份】
本品主要成份为哈西奈德（氯氟舒松、哈西缩松），其化学名称为 16α，17-[（1-甲基亚乙基）双（氧）]-11β-羟基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。 分子式：C24H32ClFO5 分子量：454.97 辅料为：聚乙二醇 400、丙二醇、二甲基亚砜、依地酸二钠、羟苯乙酯。
【适应症】
接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)、肥厚性瘢痕。
本品主要成份为哈西奈德（氯氟舒松、哈西缩松），其化学名称为 16α，17-[（1-甲基亚乙基）双（氧）]-11β-羟基-21-氯-9-氟孕甾-4-烯-3，20-二酮。 分子式：C24H32ClFO5 分子量：454.97 辅料为：聚乙二醇 400、丙二醇、二甲基亚砜、依地酸二钠、羟苯乙酯。
接触性湿疹、异位性皮炎、神经性皮炎、面积不大的银屑病、硬化性萎缩性苔藓、扁平苔藓、盘状红斑性狼疮、脂溢性皮炎(非面部)、肥厚性瘢痕。
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